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<図書>

ここまできたイオン注入技術 : 超LSIプロセスのリード役 / 布施玄秀, 平尾孝編著

ココマデ キタ イオン チュウニュウ ギジュツ : チョウ LSI プロセス ノ リードヤク

(K books;79)
出版者 東京 : 工業調査会
出版年 1991.6
大きさ 182p ; 19cm
本文言語 日本語

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配架場所 巻 次 請求記号 資料番号 状 態 コメント 予約 指定図書
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549.8/43 1000923801

書誌詳細を非表示

著者標目 布施, 玄秀(1951-) 編著 <フセ, ゲンシュウ>
平尾, 孝 編著 <ヒラオ, タカシ>
件 名 BSH:半導体
NDLSH:半導体
分 類 NDC8:549.8
書誌ID 2000012764
NCID BN06481370
巻冊次 ISBN:4769360800 ; PRICE:1800円

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